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pulvérisation réactive [2 fiches]

Fiche 1 2017-12-28

Anglais

Subject field(s)
  • Metal-Coating
OBS

Sputtering: Also known as cathode sputtering. 1. The ejection of atoms or groups of atoms from the surface of the cathode of a vacuum tube as the result of heavy-iron impact. 2. The use of this process to deposit a thin layer of metal on a glass, plastic, metal, or other surface in vacuum.

Français

Domaine(s)
  • Métallisation
CONT

Pulvérisation cathodique [...] Matériaux déposés. Tous les matériaux, conducteurs ou isolants, peuvent être déposés soit par pulvérisation directe du matériau massif, soit par pulvérisation réactive. Les deux méthodes sont souvent utilisées simultanément lorsqu'on pulvérise des corps composés (oxyde, nitrures, sulfures, etc.). C'est l'un des principaux avantages de ce procédé de permettre l'obtention de couches stœchiométriques et reproductibles : la pulvérisation du matériau massif assure la reproductibilité de la composition mais elle n'assure pas l'exactitude de la stœchiométrie [...]; la pulvérisation réactive assure la stœchiométrie.

Espagnol

Conserver la fiche 1

Fiche 2 2007-07-03

Anglais

Subject field(s)
  • Semiconductors (Electronics)
  • Electronic Systems
DEF

The sputter deposition process in which species sputtered off the target material are chemically reacting with other species in the gas mixture to form a compound to be deposited; e.g. sputtering of Si in plasma containing oxygen will result in deposition of SiO2.

Français

Domaine(s)
  • Semi-conducteurs (Électronique)
  • Ensembles électroniques
DEF

Technique de pulvérisation dans laquelle, afin de modifier les propriétés de la couche déposée, on introduit dans l'enceinte du réacteur un gaz réactif, tel que l'azote ou l'oxygène, qui entre en réaction avec le corps soumis à la pulvérisation.

Espagnol

Conserver la fiche 2

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